在當今的LCD顯示器生產過程中，清洗工藝的應用是非常重要的，例如涂膠前對ITO玻璃的清洗、顯影后對玻璃基板的清洗以及磨擦工藝后對玻璃基板的清洗等。液晶顯示器的一整套制備工藝中，清洗工藝就占到了總工作量的30%～40%。隨著液晶顯示技術的不斷進步，清洗工藝的地位也越來越重要。以下是液晶顯示器的生產流程簡圖，我們可以從中看到清洗工藝在整個工藝路線中的重要性。

 

 

ITO薄膜層、TFT陣列等制備工藝過程以及玻璃基板的包裝、搬運、運輸和存儲過程是玻璃基板上的主要污染程序，其主要污染物有塵埃粒子、纖維紙屑、礦物油或油脂等油，以及三氧化二鋁、二氧化硅等無機微粒和制備過程中遺留的殘留物、水跡、手指印等。在整個LCD的清洗過程中，業(yè)內針對上述污染物采用過不同的清洗方法，一方面是要去除玻璃基板上沾染的污染物，避免其對液晶顯示器的性能造成不良的影響，而另一方面也可以起到改善玻璃基板表面性能，增加其與加工過程中使用的各種材料之間的親合力。

 

 

隨著液晶生產線對清洗工藝要求越來越高，工程師們提出了將高壓水射流技術應用于玻璃基板清洗中的可能。在使用常壓水噴淋清洗時，噴射到玻璃基板上的水在其高表面張力的作用下，會在玻璃簡板表面形成一層水膜。水膜和混合基板表面上的微細顆粒和其他污垢，這反而會對污垢起到保護作用，后續(xù)的水則很難將這層水膜沖破，因此會使清洗效率降低。而高壓水射流技術是一種新型的清洗技術，我們采用超高壓微細顆粒水噴射清洗，將水形成大量的粒徑在幾微米到幾十微米的微細液滴，并以極高的速度和密度連續(xù)地噴射沖擊被清洗物表面。由于這種微細顆粒的水滴不可能形成對污垢有保護作用的水膜，因此對基板上的各種污垢特別是微細顆粒污垢有很好的去除效果。

 

將高壓清洗機應用到玻璃基板的清洗工藝中，可通過將清洗液加壓到100～300bar的壓力，再通過孔徑為0.5～1.5mm的微孔噴射嘴噴出，形成高流速的微小液滴來清洗玻璃基板。實際應用表明，高壓清洗機的應用提高了常壓噴淋清洗的洗凈力，縮短了清洗線的長度，并且節(jié)省了凈化空間和DI水的使用量。